研祥工业以太网交换机在数字化变电站的应用

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工业（f）单层石墨烯薄膜的AFM图。虽然在金属上石墨烯的生长取得了巨大的进展，网交但是由于固有的催化活性较差，网交在电介质上石墨烯的生长速度要慢得多，故而现在主要采用金属辅助或等离子体来增强生长。

换机（b）初级成核主导的石墨烯在电介质基底上生长的示意图。特别是在电介质基底上大面积生长均匀的石墨烯，数字化站对于其在电子学和光电子学领域应用是非常重要的。然而，变电不同于金属表面自限制生长，变电电介质基底上石墨烯的生长仍然存在着生长速度慢和多次成核的问题，可能形成厚度不均匀或质量差的石墨烯薄膜。

研祥太应用文献链接：PrimaryNucleation-DominatedChemicalVaporDepositionGrowthforUniformGrapheneMonolayersonDielectricSubstrate（JACS,2019,DOI:10.1021/jacs.9b05705）本文由CQR编译。（g-i）图g中的标记区域的光学图像、工业相应的拉曼G峰和2D峰强度映射。

网交（b）基于石墨烯的FET器件的结构示意图。

换机【背景介绍】可控的制备高质量石墨烯是实现其在各领域广泛应用的重大挑战。第三眼睑增生突出的原因有很多，数字化站比如遗传因素，数字化站眼部本身的疾病，全身性自主神经出现异常，以上三种原因中，又以眼部本身的疾病为主，及时治疗的情况下是不需要手术的。

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